西澤弘一郎氏（化学工学専攻 博士後期課程、三菱電機）、松本 歩助教、中川康幸氏（三菱電機）、佐久間 仁氏（三菱電機）、小島善樹氏（三菱電機）、福室直樹准教授、八重真治教授の研究論文「Stress Analysis of the Interface Reaction Layer Between Ni–P Films and GaAs Substrate After Annealing」が電気化学会Electrochemistry誌のEditor’s ChoiceおよびCover Artに選出されました
姫路工業倶楽部